半導體 / 芯片 · 應用場景 · APPLICATION

光刻圖形缺陷檢測

光刻圖形中的線條斷裂、短路、異物附着等細微缺陷直接影響芯片良率。

場景 · 光刻與顯影缺陷

挑戰與方案

挑戰傳統檢測誤報率約 30%，操作員需要頻繁複判，實際有效產能被大量占用。

方案深度學習特征識別配合世界模型語義理解，支持 SDK/API/Docker 靈活部署與 100% 本地私有化。

99.2%檢出率

0.8%漏檢率(原1.5%)

5min換型耗時(原30min)

本文由人工智慧生成。文中客戶案例為基於產品真實能力的模擬場景，成效數字為示例性質；官方標定口徑以產品頁為準。