晶圓、先進封裝與器件外觀、字元 OCR 檢測。
AOI 後缺陷自動分類:漏判率 <2%,人工復判量降低 90%,產能提升 30%。
鍵合後缺陷檢測:綜合檢出率 98%,檢測節拍提速 2 倍,漏檢趨近於零。
罕見缺陷快速覆蓋:新缺陷型別出現後快速學習,檢出率 >96%,誤報僅約 0.2%。
貫穿後道全流程:從晶圓、先進封裝到 Die 貼裝、字元 OCR,同一套 AI 視覺全覆蓋。
行業方案 · INDUSTRY
晶圓到先進封裝,微米級器件外觀與字元檢測。
客戶案例 · CASE STUDIES
從晶圓缺陷自動分類到引線鍵合、先進封裝 —— 把過殺率壓下去,把缺陷逃逸清零。
場景 · 晶圓缺陷自動分類
挑戰傳統 AOI 過殺率超 20%,潔淨室靠人工復判,良品被誤廢、人力成本居高不下。
方案AI-ADC 自動分流真缺陷與 nuisance,3D AI-AOI + 世界模型泛化多類缺陷。
場景 · 引線鍵合後檢測
挑戰凹陷引線等鍵合缺陷一旦逃逸到下游,會引發重大質量事故;人工復判吞吐低。
方案AI 缺陷分類做進 AI-AOI 裝置邊緣端推理,替代逐張人工復判。
場景 · 稀有缺陷少樣本
挑戰先進封裝新缺陷型別層出不窮,每類都湊不齊足夠樣本,傳統 CNN 難以覆蓋。
方案APDT 正樣本學習 + DaoAI World 世界模型,少量樣本即可泛化到罕見缺陷。
案例為匿名行業場景,指標為微鏈道愛方案的典型可達範圍。
深度案例 · IN-DEPTH
逐一拆解真實場景下的落地路徑 —— 行業背景、痛點、DaoAI 方案與成效。
某晶圓廠 AOI 復判依賴人工,過殺率長期高於 20%。引入 DaoAI AI-ADC 後,過殺降至 2% 以下,復判人機比減少 90%,產線節拍提升 30%。
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某封裝廠引線鍵合後凹陷引線等缺陷靠人工目檢,逃逸時有發生。DaoAI 把缺陷模型做進 AI-AOI 邊緣端,檢出準確率 98%,吞吐翻倍,關鍵缺陷逃逸趨零。
閱讀全文某先進封裝廠新工藝缺陷樣本湊不齊,傳統監督模型難以訓練。DaoAI 以 APDT 正樣本學習疊加世界模型泛化,稀有缺陷分類率超 96%,逃逸約 0.2%。
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某先進封裝廠微凸點 bump 缺失與橋連難以靠 2D 灰度區分。DaoAI 3D AI-AOI 以微米級高度資訊直接判定 bump 形貌,缺失與橋連檢出率顯著提升。
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某封裝廠引腳共面性與劃片崩邊靠 2D 難以量化。DaoAI 3D 視覺逐引腳測高度、逐邊查崩缺,共面性超差與崩邊漏判同步下降。
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本文介紹微鏈道愛針對半導體晶片引線鍵合後凹陷引線檢測的AI視覺應用案例,解決傳統檢測痛點,提升檢測效率與精度。
閱讀全文本文介紹了微鏈道愛針對半導體晶片封裝裂紋檢測的AI視覺應用案例,解決了傳統檢測的痛點,取得了良好的成效。
閱讀全文本文介紹了微鏈道愛針對半導體微凸點 bump 缺失/橋連的 AI 視覺檢測方案,解決了傳統檢測的痛點,取得顯著成效。
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本文介紹了微鏈道愛針對半導體晶片顆粒與劃傷分類的AI視覺應用案例,涵蓋使用者場景、痛點、技術原理、解決方案及量化成效。
閱讀全文在半導體行業,晶圓圖缺陷檢測是保障產品質量的關鍵環節。微鏈道愛憑藉先進技術為該難題提供有效方案,顯著提升檢測效率與精度。
閱讀全文在半導體晶片生產中,引腳與劃片缺陷檢測至關重要。微鏈道愛利用先進AI視覺技術,為半導體晶片檢測提供高效準確解決方案,顯著提升檢測成效。
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本文介紹了微鏈道愛針對半導體 die attach 空洞檢測的本地化部署解決方案,解決了客戶在檢測精度和資料合規方面的痛點。
閱讀全文本文介紹了微鏈道愛針對半導體晶片鐳射打標字元檢測的解決方案,解決了傳統方法的痛點,取得顯著成效。
閱讀全文本文介紹了微鏈道愛針對半導體晶圓邊緣缺陷檢測的解決方案,解決了傳統抽檢的痛點,實現高效精準全檢。
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本文介紹了微鏈道愛針對半導體光刻圖形缺陷的AI視覺檢測解決方案,包括使用者場景、痛點、技術原理、產品介紹和量化成效。
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在半導體先進封裝領域,稀有缺陷少樣本檢測是行業難題。微鏈道愛憑藉先進技術和產品,有效解決該問題,提升檢測準確性和生產效率。
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本文介紹了微鏈道愛為半導體晶圓 AOI 後缺陷自動分類提供的解決方案,解決了傳統方法在缺陷分類上的痛點,實現了高效準確的缺陷分類。
閱讀全文常見問題 · FAQ
包括晶圓表面劃痕與顆粒、引線鍵合質量、晶片切割崩邊、Bump 缺失與橋連、共面度,以及罕見缺陷的自動分類(ADC)。DaoAI 在低對比與高解析度場景下保持穩定檢出。
DaoAI 支援少樣本(few-shot)與無監督異常檢測,只需良品或極少缺陷樣本即可建模,對從未見過的罕見缺陷也能作為異常報出。
可以大幅替代。DaoAI ADC 將缺陷自動歸類並分級,復判量顯著下降,工程師只需關注少量高風險類別,提高 SPC 決策效率。
可以。DaoAI 支援 100% 本地私有化部署,模型與晶圓資料留在廠內,滿足晶圓廠對工藝機密與資料合規的嚴格要求。