一、这条线上真正难的是什么
半导体后道的问题不是"检不出",而是"过杀"。传统 AOI 为了不放过真缺陷,把判据调得很紧,结果把大量 nuisance(无害异常)一并报出来,洁净室里只能靠人工逐张复判——过杀率可以超过两成,良品被误废,人力成本压在复判工位上。
另一面是新缺陷类型层出不穷:先进封装工艺一变,缺陷形态就换一批,每一类都凑不齐足够样本,传统 CNN 难以覆盖。而键合等工序一旦有缺陷逃逸到下游,代价按整颗器件甚至整批算。
二、方案怎么搭
先分流,再判定:AI-ADC 自动区分真缺陷与 nuisance,把人工复判量压下来,而不是继续在阈值上做取舍。
少样本覆盖新缺陷:APDT 正样本学习配合 DaoAI World 世界模型,新缺陷类型出现后用少量样本即可泛化,不必等样本攒齐。
推理放在设备边缘端:缺陷分类做进 ACI 设备,替代逐张人工复判,吞吐随之上来。
产线对接:判定结果与缺陷坐标回传 MES / YMS,按批次与位置可追溯;样板与检测图像留在厂内,不出厂。
三、机型怎么选
| 工序 | 推荐配置 | 解决的主要问题 |
| AOI 后缺陷复判 | AOI 软件(AI-ADC 分流) | 过杀率与人工复判量 |
| 晶圆表面检测 | 3D ACI | 划伤、颗粒、崩边的分类与定位 |
| 引线键合 / Die 贴装 | 3D ACI(边缘端推理) | 凹陷引线、贴装偏移与空洞 |
| 字符 / Mark OCR | 2D ACI + OCR / OCV | 激光打标字符的可读性与一致性 |
四、落地节奏
微链道爱的落地路径是四步:① 需求评估——先把"真缺陷"与 nuisance 的判定边界谈清楚,这是过杀率的来源;② 方案选型——按工序与洁净度要求定机型与安装方式;③ 现场部署——良品与既有缺陷库建模上线,操作员约 30 分钟上手;④ 反馈优化——复判结果回流,新缺陷类型少样本增补,模型分钟级更新。
五、成效怎么量
盯四个量:过杀率、缺陷逃逸、人工复判量、检测节拍。微链道爱已落地的半导体场景里,典型表现是——AOI 后自动分类过杀率 <2%、人工复判量降低 90%、节拍提升 30%;键合后检测准确率 98%、吞吐翻倍、缺陷逃逸趋近于零;罕见缺陷少样本上线后分类准确率 >96%、缺陷逃逸约 0.2%。
以上为匿名行业场景下我们方案的典型可达范围,具体数值随工序、器件与既有缺陷库而变,以现场实测为准。
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